磁控溅射设备使用说明书磁控溅射设备使用说明书
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请问PVD磁控溅射真空镀膜需要注意哪些事项呢？
PVD的全称是物理气象沉积,即英文（Phisical Vapor Deposition)的简写形式。目前PVD主要有蒸发镀膜，磁控溅射镀膜，多弧离子镀膜，化学气相沉积等形式。PVD总的来说属于绿色环保产业，和其他行业相比，对人体有害很小，但不是没有。当然，也完全可以有效减少，甚至完全消除。
1）噪音污染：如特别是一些大的镀膜设备，机械真空泵噪音很大，可以把泵隔离在墙外；
2）光污染：离子镀膜过程中，气体电离发出强光，不宜透过观察窗久看；
3）金属污染：镀膜材料有些（如铬、铟、铝）是对人体有害的，特别要注意真空室清理过程中出现的粉尘污染；
4）辐射：有些镀膜要用到射频电源，如功率大，需做好屏蔽处理。另外，欧洲标准在单室镀膜机门框四周嵌装金属线屏蔽辐射。
磁控溅射镀膜原理？
是利用 Ar一02混合气体中的等离子体在电场和交变磁场的作用下，被加速的高能粒子轰击靶材表面，能量交换后，靶材表面的原子脱离原晶格而逸出，转移到基体表面而成膜。
磁控溅射的特点是成膜速率高，基片温度低，膜的粘附性好，可实现大面积镀膜。该技术可以分为直流磁控溅射法和射频磁控溅射法
怎么辨别是不是磁控溅射膜？
磁控溅射工艺是将镍、银、钛、金等高级宇航合金材料采用最先进的多腔高速旋转设备，利用电场与磁场原理高速度高力量地均匀溅射于高张力的PET基材上，保证产品卓越的隔热功能、清晰的透光率及科学、自然的金属涂层。此类产品有非常好的金属质感，有无法比拟的清晰度，而且反光极低。由于粒子更细、结构更紧密，因此，隔热持久性更高，而且可以保证永不褪色。
辨别方法是：不同的光照度下，视觉颜色恒定不变，可以保证视线清晰。如果在不同光照程度上发生了变化 ，就知道是假的了。
磁控溅射对靶材的要求是什么？
首先谈谈膜厚与哪些参数相关：
镀膜时间最相关（其他参数不变),镀膜时间越长肯定越厚。
其次，功率大小，气体流量大小，样品和靶材之间的间距大小都有关系。
控制膜厚，首先要能测量膜厚，金属薄膜的话，XRF比较方便，但是要参照标准品建立程序（程序是依照标准样片建立的，标准片越准，你的测量值会越准确）。 金属氧化物薄膜，椭偏仪。不确认材料又比较厚的，台阶仪。AFM可以测量比较薄的薄膜。
膜厚测量应该可以写一本书。。。简单描述下。
为什么磁控溅射要抽真空？
溅射过程是通过电能，使气体的离子（可以理解为为气体颗粒）轰击靶材（一般是金属溅射物），就像砖头砸土墙，土墙的部分原子溅射出来，落在所要镀膜的基体上的过程。
如果气体太多，气体离子在运行到靶材的过程中，很容易跟路程中的其他气体离子或分子碰撞，这样就不能加速，也溅射不出靶材原子来。所以需要真空状态。
而如果气体太少，气体分子不能成为离子，没有很多可以轰击靶材，所以也不行。
只能选择中间值，有足够的气体离子可以轰击靶材，而在轰击过程中，不至于因为气体太多而相互碰撞致使失去太多的能量的气体量。